研究成果发表在 IEICE Trans.

Kanno 的 Si-SiN 混合集成研究成果已经发表。

1. Ryo Sugano、Junnosuke Kokubu、Ryo Otake、Shun Fujii 和 Takasumi Tanabe，"用于氮化硅-硅异质集成的宽带宽度边缘耦合器结构集成的宽带宽边缘耦合器结构"，" IEICE Transactions on Electronics，Vol. E108-C，No. 11，2024ECP5070 (2025)。.