OSA (FiO/LS) 2016年 Shun Fujii

[FTh5G.3] "基于硅片的连续体生成，用于频率梳自参考"（NIST）。
利用二氧化硅波导中的色散波扩展超连续光的带宽的工作的继续，这项工作也在今年的CLEO上发表。波导是由Vahala小组制作的，并且可以在光刻阶段控制色散波的位置。这一次，为了f-2f自参考方法，他们甚至使用分散波在一个八度内扩散的连续体来测量载波偏移频率。

[FTh5G.2] "利用电子光学将锁相线插入克尔梳的实验演示调制"（A. Wilner ）。
EO调制可以应用于由SiN环形谐振器产生的卡口，以产生一个新的频率，填充卡口之间的空间。这样做的主要好处是，可以调整由谐振器长度唯一决定的FSR间距，并且可以实现更低的噪声。此外，还测量了由EO调制产生的两个梳子之间的频率差，并测量了用于通信的信号误差信号。通过用射频信号调制光学汽车梳子来控制梳子数量的想法非常有趣。另一个优点是，在调制前后，相位噪声不会降低。

[FTh5G.6] "氮化铝微镜谐振器中的紫外线二次谐波的产生"（空军研究中心）。实验室)
使用氮化铝谐振器确认了第二次谐波产生的紫外线，在780纳米波段的Q值约为9*103，当输入Ti:Sapphire飞秒激光脉冲时，第二次谐波产生的紫外线得到了确认。然而，AlN波导的情况并非如此。然而，这是由AlN波导造成的，而不是由谐振器产生的。如果提高短波长的Q值并使用高功率的CW激光器，在谐振器中产生谐波是可能的，但目前看来不可能达到这种程度。

[FTu5D.2] "Mid-Infrared Dual-Comb Source Using a Silicon Microresonator" （哥伦比亚大学）。
关于中红外波段的双梳状光谱的报告，在今年的CLEO会议的后期提交。虽然介绍的内容几乎相同，但中红外波段的微梳理光谱是一个备受关注的领域，很多人参加了会议。其他研究（FTu5D.3），如使用1.5μm泵的超连续体扩展到使用SiN波导的中红外波段，也在同一会议上发表。

[FTu5D.5] "氟化物晶体微谐振器的中红外超高Q因子"（EPFL）。
关于在氟化物材料（Ca/Mg/Ba/SrF2）制成的晶体谐振器中实现中红外波段超过108的高Q值的报告。使用黄铜矿（As2S3）的锥形纤维，在上述谐振器中测量到了108，除了MgF2，由于多光子吸收，它被限制在107。研究结果表明，在未来针对中红外波段的研究中，可以使用氟化物WGM谐振器以及硅和氮化硅等环形谐振器。