Informe sobre la participación en CLEO 2020

11-15 de mayo de 2020, en línea

1er año de máster Koki Yoube

1. sobre CLEO 2020

CLEO es una conferencia internacional sobre ciencia láser organizada por The Optical Society (OSA), American Physical Society (APS) y IEEEPhotonics Society. La conferencia suele celebrarse en San José, pero este año se celebró en línea debido a los efectos de la nueva infección por coronavirus (COVID-19). El desarrollo de la conferencia no fue fluido en algunos momentos debido a la mala conectividad y al entorno de grabación de una conferencia en línea. Sin embargo, se demostraron las ventajas de celebrar la conferencia en línea, como el hecho de que la conferencia era gratuita y cualquiera podía asistir, y el hecho de que las grabaciones podían verse posteriormente.

2. la presentación del ponente

Título: Acoplamiento del modo de galería de susurros con cristal fotónico de silicio
Presentador: Koki Yube
Afiliación: Universidad de Keio
Presentación nº: SM1J.4 (Lun, May11th)

Se presenta el acoplamiento eficiente de guías de onda y resonadores de cristal fotónico de silicio con resonadores silicatroides, que son resonadores de modo de galería susurrante (WGM). Se informó de las aplicaciones potenciales del sistema acoplado de resonadores con valores Q asimétricos. La presentación se hizo en directo. La presentación se realizó como una presentación en directo, en la que se envió por adelantado una grabación de vídeo con voz y, en caso de problemas técnicos como una mala conexión, se emitió un vídeo pregrabado. Aunque teníamos algunas dudas sobre nuestros conocimientos lingüísticos, no tuvimos problemas para escuchar las preguntas porque se podían comprobar en el texto. En cuanto a las preguntas, muchos preguntaron si era posible fabricar un resonador WGM con un alto valor Q en el mismo chip que un cristal fotónico. Muchas de las preguntas parecían preguntas básicas que se podían anticipar. La presentación en formato Live pudo completarse sin demora porque estábamos acostumbrados a utilizar sistemas de conferencia web como Zoom y Webex para las reuniones y las conferencias redondas en el laboratorio debido al coronavirus, pero si no se está acostumbrado a utilizarlos, creo que es esencial comprobar su funcionamiento de antemano.

3. presentaciones a las que se asiste.

Título: Dirección de la luz topológica no hermitiana
Presentador: Han Zhao
Afiliación: Universidad de Pensilvania
Presentación nº: FTh1B.5 (Jue,May14th)
DOI:10.1126/science.aay1064

Presentación de un método para controlar el flujo de luz a demanda combinando un sistema no Hermite con un sistema topológico. El sistema topológico consiste en un sistema acoplado de resonadores microring de InGaAsP, en el que surgen nuevos estados topológicos en el límite entre las regiones de ganancia y pérdida mediante bombeo óptico local. Dado que los caminos ópticos topológicos pueden reconfigurarse con flexibilidad, se están estudiando aplicaciones como el encaminamiento óptico.

Título: Efecto de ganancia de borde topológico PT-simétrico
Presentado por Alex Y. Song
Afiliación: Universidad de Stanford
Presentación nº: FM2A.2 (Lun,May11th)
arXiv:1910.10946

Los primeros trabajos sobre sistemas topológicos suponían un Hamiltoniano de Hermite, pero recientemente se ha despertado el interés por las propiedades topológicas de los Hamiltonianos no de Hermite (con ganancia/pérdida). Se ha demostrado que en estos sistemas la mayor parte no se amplifica cuando se bombea todo el sistema, y sólo los bordes muestran ganancia y pérdida. Entre las posibles aplicaciones se incluyen los láseres topológicos, en los que ahora es posible bombear toda la estructura, eliminando así la necesidad de bombeo selectivo que ha sido necesario en estudios anteriores.

Título: Factores Q en chip superiores a 1.000 millones
Presentador: Lue Wu
Afiliación: Instituto de Tecnología de California
Presentación nº: SW3J.7(mié,13 de mayo)

Se ha conseguido un valor Q del orden de la novena potencia de 10 en un resonador de cuña de sílice en chip. Se han utilizado cuatro optimizaciones del proceso de fabricación para mejorar el valor Q: 1. Estructura de zanja estrecha 2. Control de temperatura del grabado 3. Recocido 2-3 veces a 1000°C durante 20 horas 4. Socavado hasta el límite de pandeo 5. Socavado hasta el límite de pandeo Socavado. Cada una de las optimizaciones mostró las siguientes mejoras: 1. Menor tiempo de grabado en seco con XeF2, menor grabado no intencionado de sílice 2. Fabricación estable 3. Menor tensión aparente, eliminación de grupos OH, óxidos térmicos más densos 4. Menor residuo de silicio, menor tensión de cuña. La obtención de valores Q elevados mediante una fabricación cuidadosa se consideró de gran importancia, aunque no tenía interés académico.