CLEO2012 Kou Yoshiki

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Rapport CLEO2012@SAN JOSE.

Tanabe Lab, étudiant en 1ère année de master, Wataru Yoshiki

Nous avons participé à CLEO2012@San Jose du 6 au 11 mai 2012 et avons fait une présentation orale. Dans ce rapport, nous résumons brièvement nos impressions sur CLEO2012.

Kou Yoshiki

[Impression générale].

C'était mon premier voyage aux États-Unis (à l'étranger), et bien que j'aie travaillé avec Tanabe pendant le CLEO, le reste du temps, j'étais seul, c'était donc un peu une aventure pour moi personnellement. San Jose est une ville spacieuse. Le soleil et l'été ont régné tout au long de l'événement, mais l'humidité était faible, de sorte que la chaleur était agréablement différente de celle de l'été au Japon.
CLEO est une très grande conférence internationale sur l'optique avec plus de 1000 présentations orales. Les participants sont venus du monde entier et ont eu des discussions animées. Parmi eux, il y avait de nombreux participants chinois, et près de la moitié ( ?) des présentateurs étaient d'origine chinoise. Près de la moitié ( ?) des intervenants étaient d'origine chinoise. En revanche, le nombre de présentations japonaises était inférieur à 10%. Je suis convaincu que les Japonais devraient se rendre plus activement à l'étranger.

[Sur sa présentation].

J'ai fait une présentation sur le thème "Rigorous analysis of bistable memory in silica toroid microcavity" (numéro de présentation : CM2M.8). Il s'agit d'une étude visant à déterminer si la mémoire optique Kerr bistable est possible dans les microcavités toroïdales en silice par le biais d'une analyse numérique. Il y avait environ 20 à 30 personnes dans le public, probablement parce que la présentation avait lieu à la fin de la matinée. La présentation elle-même s'est déroulée sans problème, mais la séance de questions-réponses en anglais a été très difficile. Les questions portaient sur les vitesses de commutation et les pertes d'absorption. Je pense que c'est une bonne chose, car le fait qu'ils aient posé des questions signifie qu'ils écoutaient avec un certain intérêt.

Kou Yoshiki

Annonces notées, développements récents].

La recherche sur la photonique du silicium a été très active à CLEO. Le fait qu'un cours de courte durée sur la photonique au silicium ait été ouvert cette année montre le niveau d'intérêt pour ce domaine. Le nombre de présentations par des chercheurs d'entreprises telles qu'IBM et Luxtera, conscients de l'importance de la commercialisation, était également remarquable. Le nombre de présentations par des chercheurs d'entreprises, telles qu'IBM et Luxtera, soucieux de commercialisation a également été remarqué.
En outre, la session sur les peignes de fréquences optiques, un domaine qui concerne également notre laboratoire, a été très intéressante (une session est consacrée aux peignes de fréquences). En particulier, la présentation du groupe de l'université de Cornell sur la génération de peignes de fréquence sur puce a attiré une foule debout. Outre Cornell, la session sur les peignes de fréquence comprenait des présentations du groupe de Vahala et Weiner, de l'Institut Max-Plank et du JPL, ce qui montre clairement qu'un certain nombre de groupes de renommée mondiale se lancent dans ce domaine.
La présentation du groupe Vahala à Caltech sur les résonateurs à disque à Q ultra élevé, "Ultra-High-Q Wedge Resonators with Precise FSR control" (présentation no : CM1M.1). La valeur Q d'un résonateur à disque avant refusion était traditionnellement réduite en raison de l'effet de diffusion dû à la rugosité de la surface, mais dans cette recherche, Q>8×108 a été obtenu en poussant la distribution du mode WG profondément dans la surface du résonateur en inclinant fortement les côtés du disque, supprimant ainsi l'effet de la rugosité de la surface.

[Fin].

Participer à CLEO2012 a été pour moi une très bonne expérience. Le monde de la recherche est devenu plus international que je ne l'avais imaginé. J'ai décidé de consacrer plus de temps que jamais à l'anglais. Je consacrerai également cette année à la recherche afin de pouvoir contribuer à nouveau à CLEO l'année prochaine.