CLEO2012 寇吉木

2012-01-19 2022-09-24 miyahara

研究

CLEO2012@SAN JOSE 报告。

田边实验室，硕士一年级学生，Wataru Yoshiki

我们参加了 2012 年 5 月 6 日至 11 日在圣何塞举行的 CLEO2012@San Jose 会议，并做了一次口头报告。在本报告中，我们简要总结了对 CLEO2012 的印象。

[一般印象]。

这是我第一次去美国（海外），虽然在 CLEO 期间我与田边一起工作，但其余时间我都是独自一人，因此对我个人来说，这是一次冒险。圣何塞是一座宽敞的城市。活动期间一直阳光明媚，夏日炎炎，但湿度很低，因此炎热的天气与日本的夏天不同，让人感觉很舒服。
CLEO 是一个非常大型的国际光学会议，有 1000 多个口头报告。来自世界各地的人们汇聚一堂，展开了热烈的讨论。其中有许多中国与会者，近一半（？近一半的演讲者是华裔。相比之下，日本人的发言人数不足 10%。我深感日本人应更积极地走出国门。

[关于他的演讲]

我做了题为 "Rigorous analysis of bistable memory in silica toroid microcavity "的报告（报告编号：CM2M.8）。这是一项通过数值分析研究在二氧化硅环状微腔中是否存在光学克尔双稳态存储器的研究。听众大约有 20-30 人，可能是因为报告时间在上午部分的最后。演讲本身进行得很顺利，但英语问答环节却非常困难。问题都是关于切换速度和吸收损失的。我认为这是件好事，因为他们提出了问题，说明他们在饶有兴趣地听讲。

已注意到的公告、最新进展]。

硅光子学研究在 CLEO 上非常活跃。今年开设了硅光子学短期课程，这表明了人们对这一领域的关注程度。来自 IBM 和 Luxtera 等公司的研究人员的演讲数量也很显著，这些公司都有商业化的意识。IBM和Luxtera等公司的研究人员以商业化为目的所做的报告数量也很明显。
此外，与我们实验室同样相关的光学频率梳会议也非常令人兴奋（有一个会议专门讨论频率梳）。特别是康奈尔大学小组关于芯片梳状频率生成的报告吸引了众多听众驻足观看。除康奈尔大学外，频率梳会议还包括瓦哈拉和韦纳小组、马克斯-普朗克研究所和 JPL 的报告，这表明许多世界知名小组正在进入这一领域。
个人感兴趣的是加州理工学院瓦哈拉小组关于超高 Q 值圆盘谐振器的报告："具有精确 FSR 控制的超高 Q 值楔形谐振器"（报告编号：CM1M.1）：CM1M.1）。传统上，由于表面粗糙度的散射效应，回流焊前的圆盘谐振器的 Q 值会降低，但在这项研究中，通过将圆盘侧面急剧倾斜，将 WG 模式分布推向谐振器表面深处，从而抑制了表面粗糙度的效应，实现了 Q 值>8×108。

[结束]。

参加 CLEO2012 对我来说是一次非常好的经历。研究领域的国际化程度超出了我的预期。我决定投入比以往更多的时间学习英语。我也将在今年投入研究，以便明年为 CLEO 做出贡献。