CLEO2012 Kou Yoshiki

2012-01-19 2022-09-24 miyahara

研究

CLEO2012@SAN JOSE 報告。

Tanabe 實驗室，碩士一年級學生 Wataru Yoshiki

我們於 2012 年 5 月 6 日至 11 日參加了 CLEO2012@San Jose，並做了一次口頭報告。在本報告中，我們將簡要總結我們對 CLEO2012 的印象。

[一般印象]。

這次是我第一次到美國（海外），雖然在 CLEO 期間我和 Tanabe 一起工作，但其餘的時間我都是獨自一人，所以對我個人來說，這也算是一次冒險。聖荷西是個寬敞的城市。整個活動期間都是陽光普照，夏日氣息濃厚，但濕度很低，因此炎熱的氣候與日本的夏天不同，令人感到非常愉快。
CLEO 是一個非常大型的光學國際會議，有超過 1000 個口頭報告。來自世界各地的人們聚集在一起，進行了熱烈的討論。其中，華人與會者眾多，近一半的演講者是華裔。近一半的發言人是華裔。相比之下，日本人的發言則少於 10%。我強烈認為日本人應該更積極地走出國門。

[關於他的簡報]

我作了題為 ”Rigorous analysis of bistable memory in silica toroid microcavity ”的演講（演講號碼：CM2M.8）。這是一項透過數值分析來研究光 Kerr 雙穩態記憶體在矽膠環狀微腔中是否可行的研究。聽眾約有 20-30 人，可能是因為簡報時間是在上午部分的最後。簡報本身進行得很順利，但英文的問答環節卻非常困難。問題都是關於切換速度和吸收損失。我認為這是一件好事，因為他們提出問題的事實，代表他們有興趣聆聽。

重要公告、最新發展]。

矽光子學的研究在 CLEO 上非常活躍。今年開設了矽光子學短期課程，顯示了人們對這個領域的興趣。來自 IBM 和 Luxtera 等有意邁向商業化的公司研究人員的演講數量也很顯著。IBM 和 Luxtera 等公司的研究人員以商業化為目標所做的簡報數量也很顯著。
此外，光頻梳這個領域也與我們的實驗室有關，因此光頻梳的分會非常令人興奮（有一個分會專門討論頻率梳）。特別是康奈爾大學的研究小組在晶片上產生頻率梳的演講，吸引了眾多觀眾站立聆聽。除了康奈爾大學之外，Vahala 和 Weiner 的研究小組、Max-Plank 研究所和 JPL 也在梳頻分會中發表了報告，顯然有許多世界知名的研究小組正在進入這個領域。
我個人最感興趣的是加州理工學院 Vahala 小組對超高 Q 值圓盤諧振器的演講，「具備精準 FSR 控制的超高 Q 值楔型諧振器」（演講編號：CM1M.1）：CM1M.1）。傳統上，圓盤諧振器在回流焊前的 Q 值會因為表面粗糙度的散射效應而降低，但在這項研究中，藉由將圓盤兩側銳角化，將 WG 模式分佈推向諧振器表面深處，進而抑制表面粗糙度的效應，達到 Q>8×108 的效果。

[結束].

對我來說，參加 CLEO2012 是一次非常好的經驗。研究世界的國際化程度比我預期的還要高。我決定投入比以往更多的時間在英文上。我也會在今年投入研究，以便明年能再次為 CLEO 做出貢獻。

分類: 国際会議報告

CLEO2012 Kou Yoshiki

ICOOPMA12 Hiroshi Kudo

開發多角形環狀微光諧振器。