FiO 2017 Tomohiro Tetsumoto

2017-01-18 2022-09-24 miyahara

研究

OSA 光电领域前沿技术（FIO）参与报告

博士学位3哲本智博，一年级。

1.概述。

我参加了 9 月 17 日至 21 日在美国华盛顿举行的国际光学前沿会议（FiO）。 FiO 是由美国光学学会（OSA）组织的会议，每年在美国各地举行。今年的会议在美国光学学会的总部所在地华盛顿举行，我得以参观光学学会的总部大楼。这次会议整体上似乎把重点放在了海报展示上，对几份优秀的海报投稿进行了快速口头报告和电子海报初步介绍等新颖的尝试。

2.关于他自己的介绍

我在海报上向大约 10 位听众介绍了最大化二氧化硅纳米束谐振器耦合效率的方法。我收到了许多关于研究基本原理的问题，还收到了几个关于凹陷纳米纤维制造方法的问题，可能是因为我在一个纤维相关研究聚集的地方做了报告。其中一个人有凹陷纤维制造方面的经验，并与我们分享了他的困难，但他告诉我们，他最近正在研究一种不同的方法，并告诉我们一篇关于这种制造方法的论文已被 Optica 接收。总的来说，我在回答问题时没有遇到特别大的困难，但我也意识到，有些问题的答案在精确定位时有些偏小，因此我可能需要提前多做一些准备，以便集思广益。

3 主题介绍

FM3A.1.多层硅氮化硅集成光子平台的进展 Joyce K. Poon

多伦多大学特邀演讲。一名博士生作报告。多伦多大学的一名博士生做了关于该研究小组在硅衬底上构建的氮化硅平台上的光栅耦合器、模式转换器和调制器等光学元件的报告。该小组一直在与 A*STAR 合作制造多层结构，这种结构很难制造，而且还制造了需要多次实验的结构，如具有 U 型载流子分布的调制器。氮化硅平台经常被用于车载通信生成等高级研究中，但我经常听说，由于杨氏模量与其他材料不同，会出现基片开裂等问题，因此我认为在工业实施中可能会出现各种问题，但这项研究完全兼容 CMOS。不过，这项研究是使用与 CMOS 兼容的设备和工艺进行的（但不清楚是否在 6 英寸和 8 英寸等大型晶圆上进行），因此我改变了想法，认为存在可以消除我所担心的问题的技术。