FiO 2017 Tomohiro Tetsumoto

Investigación

FRONTERAS DE LA ÓPTICA (FIO) de la OSA Informe de participación

Doctorado3Tomohiro Tetsumoto, año 1.

1. visión general.

Asistí a la conferencia internacional Frontiers in Optics (FiO) celebrada en Washington (EE.UU.) del 17 al 21 de septiembre FiO es una conferencia organizada por la Optical Society of America (OSA) que se celebra anualmente en distintos lugares de Estados Unidos. Este año la conferencia se celebró en Washington, sede de la Optical Society of America, y pude ver el edificio donde tiene su sede la OSA. La conferencia en su conjunto pareció centrarse esta vez en las presentaciones de pósteres, con intentos novedosos como las presentaciones orales de fuego rápido y los pósteres electrónicos para la presentación preliminar de varios pósteres excelentes.

Fig. 1: Base de operaciones de la OSE, situada cerca del lugar donde se alojaban.
Fig. 1: Base de operaciones de la OSE, situada cerca del lugar donde se alojaban.

2. en su propia presentación

Presenté un póster sobre métodos para maximizar la eficacia de acoplamiento de los resonadores de nanohaz de sílice ante unas 10 personas. Recibí muchas preguntas sobre los fundamentos de la investigación, y varias sobre el método de fabricación de nanofibras con hoyuelos, probablemente porque hice la presentación en un lugar donde se había reunido la investigación relacionada con las fibras. Uno de ellos tenía experiencia en la fabricación de fibras con hoyuelos y compartió sus dificultades con nosotros, pero nos dijo que recientemente había estado trabajando en un método diferente y nos habló de un artículo sobre este método de fabricación que había sido aceptado por Optica. En general, no tuve especiales dificultades para responder a las preguntas, pero soy consciente de que algunas de las respuestas eran un poco escuetas a la hora de precisarlas, por lo que quizá deba prepararme un poco más de antemano para ordenar mis ideas.

3. Introducción del tema

FM3A.1. Avances en las plataformas fotónicas integradas multicapa de nitruro de silicio sobre silicio Joyce K. Poon

Charla invitada de la Universidad de Toronto. Un estudiante de doctorado hizo una presentación. Un estudiante de doctorado de la Universidad de Toronto hizo una presentación sobre los elementos ópticos del grupo, como acopladores de rejilla, convertidores de modo y moduladores en una plataforma de nido de silicio construida sobre un sustrato de silicio. El grupo ha trabajado con A*STAR para fabricar estructuras multicapa, difíciles de fabricar, y también ha fabricado estructuras que requieren muchos ensayos experimentales, como moduladores con una distribución de portadores en forma de U. Las plataformas de nido de silicio se utilizan a menudo en la investigación avanzada, como la generación de carcom, pero a menudo he oído que hay problemas como el agrietamiento del sustrato debido a la diferencia en el módulo de Young en comparación con otros materiales, por lo que pensé que podría haber varios problemas en la aplicación industrial, pero esta investigación es completamente compatible con CMOS. Sin embargo, esta investigación se llevó a cabo utilizando equipos y procesos compatibles con CMOS (aunque no está claro si se realizó en obleas de gran tamaño, como las de 6 y 8 pulgadas), y he cambiado de opinión sobre la existencia de una tecnología que pueda despejar los problemas que temía.