CLEO2012 Kou Yoshiki
Investigación
CLEO2012@SAN JOSE Informe.
Laboratorio Tanabe, estudiante de 1er año de máster, Wataru Yoshiki
Asistimos a CLEO2012@San José del 6 al 11 de mayo de 2012 e hicimos una presentación oral. En este informe resumimos brevemente nuestras impresiones sobre CLEO2012.
[Impresión general].
Este fue mi primer viaje a los EE.UU. (al extranjero), y aunque trabajé con Tanabe durante el CLEO, el resto del tiempo estuve por mi cuenta, así que fue un poco una aventura para mí personalmente. San José es una ciudad espaciosa. Hizo sol y verano durante todo el evento, pero la humedad era baja, por lo que el calor era agradablemente distinto al del verano en Japón.
CLEO es una gran conferencia internacional sobre óptica, con más de 1.000 presentaciones orales. Asistieron ponentes de todo el mundo y se celebraron animados debates. Entre ellos, había muchos participantes chinos, y casi la mitad (?) de los ponentes eran de origen chino. Casi la mitad (?) de los ponentes eran de origen chino. En cambio, el número de ponencias japonesas fue inferior a 10%. Creo firmemente que los japoneses deberían salir al extranjero más activamente.
[En su presentación].
Hice una presentación sobre el tema "Análisis riguroso de la memoria biestable en microcavidades toroidales de sílice" (número de presentación: CM2M.8). Se trata de un estudio para investigar si la memoria óptica biestable Kerr es factible en microcavidades toroidales de sílice mediante análisis numérico. Había unas 20-30 personas entre el público, probablemente porque la hora de la presentación era al final de la parte de la mañana. La presentación en sí transcurrió sin problemas, pero la sesión de preguntas y respuestas en inglés fue muy difícil. Las preguntas versaban sobre la velocidad de conmutación y las pérdidas de absorción. Creo que esto fue bueno, porque el hecho de que hicieran preguntas significa que estaban escuchando con cierto interés.
Anuncios destacados, desarrollos recientes].
La investigación sobre fotónica de silicio fue muy activa en CLEO. El hecho de que este año se haya abierto un curso corto sobre fotónica de silicio demuestra el interés que suscita este campo. También fue notable el número de presentaciones de investigadores de empresas, como IBM y Luxtera, concienciados con la comercialización. También fue notable el número de presentaciones de investigadores de empresas, como IBM y Luxtera, que tienen presente la comercialización.
Además, la sesión sobre el peine de frecuencias ópticas, un campo que también interesa a nuestro laboratorio, fue muy emocionante (hay una sesión dedicada al peine de frecuencias). En particular, la presentación del grupo de la Universidad de Cornell sobre la generación de peines de frecuencia en chip atrajo a un público que llenaba las salas. Además de Cornell, la sesión sobre peine de frecuencias incluyó presentaciones del grupo de Vahala y Weiner, el Instituto Max-Plank y el JPL, lo que deja claro que varios grupos de renombre mundial están entrando en este campo.
De interés personal fue la presentación del grupo Vahala de Caltech sobre resonadores de disco de calidad ultra alta, "Ultra-High-Q Wedge Resonators with Precise FSR control" (presentación nº: CM1M.1). El valor Q de un resonador de disco antes del reflujo se reducía convencionalmente debido al efecto de la dispersión por la rugosidad de la superficie, pero en esta investigación se consiguió un Q>8×108 empujando la distribución del modo WG hacia lo más profundo de la superficie del resonador mediante la angulación brusca de los lados del disco, suprimiendo así el efecto de la rugosidad de la superficie.
[Fin].
Para mí fue una muy buena experiencia participar en CLEO2012. El mundo de la investigación se ha internacionalizado más de lo que esperaba. He decidido dedicar más tiempo que nunca al inglés. También dedicaré este año a la investigación para poder contribuir a CLEO el año que viene.
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