CLEO2012 吉岐航
Research
CLEO2012@SAN JOSE 보고서
타나베 연구실 석사1년 吉木 航
2012년 5월 6일부터 5월 11일까지 개최된 CLEO2012@San Jose에 참가하여 1건의 구두 발표를 하였습니다. 본 보고서에서는 CLEO2012의 인상을 간략하게 정리해 보겠습니다.
일반적인 인상 】.
저는 이번이 첫 미국(해외) 방문이었는데, CLEO 기간 동안은 타나베와 함께 행동했지만, 그 외에는 혼자서 행동했기 때문에 개인적으로는 약간의 모험이었습니다. 개최지인 San Jose는 넓은 도시입니다. 개최 기간 동안 내내 맑고 여름처럼 화창한 날씨였지만, 습도가 낮아서 일본의 여름과는 다른 기분 좋은 더위였습니다.
CLEO는 구두 발표 건수가 1000건이 넘는 매우 큰 규모의 광학 관련 국제회의입니다. 각국에서 사람들이 모여서 활발한 토론이 이루어지고 있었습니다. 그 중에서도 중국계 참가자가 많았고, 발표자의 절반 가까이(?) 가 중국계였습니다. 이에 비해 일본인의 발표 건수는 10%에도 미치지 못한 것 같습니다. 일본인은 좀 더 적극적으로 해외로 나가야 한다는 것을 강하게 느꼈습니다.
자신의 발표에 대해 】.
이번에 저는 "Rigorous analysis of bistable memory in silica toroid microcavity"(발표번호 : CM2M.8)라는 주제로 발표를 하였습니다. 실리카 토로이드 마이크로 광공진기 내에서 광 Kerr 쌍안정 메모리가 실현 가능한지 여부를 수치해석으로 검토하는 연구입니다. 발표 시간이 오전 파트의 마지막이라 그런지 청중은 20-30명 정도였습니다. 발표 자체는 무리 없이 진행할 수 있었지만, 역시 영어로 질의응답을 하는 것은 매우 어려웠습니다. 질문의 내용은 스위칭 속도에 관한 것과 흡수 손실에 관한 것이었습니다. 질문을 해준다는 것은 어느 정도 관심을 가지고 들어준다는 것이기 때문에 이 점에 대해서는 좋았다고 생각합니다.
주목하는 발표，최근 동향 】.
CLEO에서는 실리콘 포토닉스에 관한 연구가 매우 활발하게 진행되고 있습니다. 올해부터 실리콘 포토닉스의 Short-course가 개설된 것만 봐도 그 주목도를 알 수 있습니다. 기존에는 실리콘 포토닉스 위에 집적하는 요소 소자에 관한 연구가 주류를 이루었지만, 이번 발표에서는 실제로 광원, 변조기, 도파관, 수광기를 하나의 칩에 집적하여 동작시키는 연구가 늘어났으며, IBM이나 Luxtera 등 기업 연구자들의 상용화를 염두에 둔 발표도 눈에 띄었습니다. 있었습니다.
또한, 본 연구실과 연관된 분야인 광주파수컴에 대한 세션도 매우 성황을 이루었습니다(주파수컴 전문 세션이 있습니다). 특히 Cornell대 그룹의 온칩으로 주파수컴을 발생시키는 연구에 대한 발표 때는 서서 볼 수 있을 정도로 많은 사람들이 모였습니다. 주파수컴 세션에서는 Cornell대 외에도 Vahala와 Weiner의 그룹, Max-Plank 연구소, JPL 등의 발표가 있어 세계적으로 유명한 그룹들이 이 분야에 뛰어들고 있음을 알 수 있었다.
개인적으로 주목한 것은 Caltech의 Vahala 그룹의 초고Q값 디스크형 공진기 관련 발표인 "Ultra-High-Q Wedge Resonators with Precise FSR control"(발표번호: CM1M.1)입니다. 리플로우 전 디스크형 공진기의 Q값은 표면 거칠기에 의한 산란의 영향으로 낮아진다는 것이 정설이었으나, 이 연구에서는 디스크 측면의 각도를 예각화하여 WG 모드 분포를 공진기 표면 깊숙이 밀어넣어 표면 거칠기의 영향을 억제함으로써 Q>8×108을 달성하였습니다.
끝에 】.
이번 CLEO2012에 참가할 수 있었던 것은 매우 좋은 경험이었습니다. 연구의 세계는 제가 생각했던 것보다 훨씬 더 국제화되어 있었습니다. 앞으로는 영어에 대해 지금까지보다 더 많은 시간을 할애하기로 결심했습니다. 또한 내년도에도 CLEO에 투고할 수 있도록 올 한 해 동안 연구에 매진할 생각입니다.
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