CLEO2012 Kou Yoshiki
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Relazione CLEO2012@SAN JOSE.
Laboratorio Tanabe, studente del primo anno di master, Wataru Yoshiki
Abbiamo partecipato al CLEO2012@San Jose dal 6 all'11 maggio 2012 e abbiamo tenuto una presentazione orale. In questa relazione riassumiamo brevemente le nostre impressioni su CLEO2012.
[Impressione generale].
Questo è stato il mio primo viaggio negli Stati Uniti (all'estero) e, sebbene abbia lavorato con Tanabe durante il CLEO, per il resto del tempo sono stato da solo, quindi è stata un'avventura per me. San Jose è una città spaziosa. Durante l'evento c'era sempre il sole e l'estate, ma l'umidità era bassa, quindi il caldo era piacevolmente diverso dall'estate in Giappone.
CLEO è una conferenza internazionale sull'ottica molto ampia, con più di 1000 presentazioni orali. Si sono riunite persone da tutto il mondo e si sono tenute vivaci discussioni. Tra questi, c'erano molti partecipanti cinesi e quasi la metà (?) dei presentatori era di origine cinese. Quasi la metà (?) dei presentatori era di origine cinese. Il numero di presentazioni giapponesi è stato invece inferiore a 10%. Sono fermamente convinto che i giapponesi dovrebbero andare all'estero più attivamente.
[Sulla sua presentazione].
Ho tenuto una presentazione sul tema "Rigorous analysis of bistable memory in silica toroid microcavity" (numero di presentazione: CM2M.8). Si tratta di uno studio volto a verificare se la memoria ottica Kerr bistabile è fattibile in microcavità toroidali di silice mediante analisi numerica. Tra il pubblico c'erano circa 20-30 persone, probabilmente perché l'orario di presentazione era alla fine della parte mattutina. La presentazione in sé si è svolta senza problemi, ma la sessione di domande e risposte in inglese è stata molto difficile. Le domande riguardavano la velocità di commutazione e le perdite di assorbimento. Credo che questo sia stato un bene, perché il fatto che abbiano fatto domande significa che stavano ascoltando con un certo interesse.
Annunci degni di nota, sviluppi recenti].
La ricerca sulla fotonica del silicio è stata molto attiva al CLEO. Il fatto che quest'anno sia stato aperto un corso breve sulla fotonica del silicio dimostra il livello di interesse in questo campo. Si è notato anche il numero di presentazioni di ricercatori di aziende come IBM e Luxtera, consapevoli della commercializzazione. Il numero di presentazioni da parte di ricercatori di aziende, come IBM e Luxtera, che avevano in mente la commercializzazione, è stato anch'esso notevole.
Inoltre, la sessione sul pettine ottico di frequenza, un campo che riguarda anche il nostro laboratorio, è stata molto interessante (c'è una sessione dedicata al pettine di frequenza). In particolare, la presentazione del gruppo della Cornell University sulla generazione di un pettine di frequenza su chip ha attirato una folla in piedi. Oltre alla Cornell, la sessione sul pettine di frequenza comprendeva presentazioni del gruppo di Vahala e Weiner, dell'Istituto Max-Plank e del JPL, il che rende chiaro che diversi gruppi di fama mondiale stanno entrando in questo campo.
Di interesse personale è stata la presentazione del gruppo Vahala del Caltech sui risonatori a disco ad altissimo Q, "Ultra-High-Q Wedge Resonators with Precise FSR control" (presentazione no: CM1M.1). Il valore Q di un risonatore a disco prima del reflow era convenzionalmente ridotto a causa dell'effetto di dispersione della rugosità superficiale, ma in questa ricerca è stato ottenuto un Q>8×108 spingendo la distribuzione del modo WG in profondità nella superficie del risonatore mediante un'angolazione netta dei lati del disco, sopprimendo così l'effetto della rugosità superficiale.
[Fine].
Partecipare al CLEO2012 è stata per me un'esperienza molto positiva. Il mondo della ricerca si è internazionalizzato più di quanto mi aspettassi. Ho deciso di dedicare all'inglese più tempo che mai. Dedicherò anche quest'anno alla ricerca, in modo da poter contribuire al CLEO l'anno prossimo.
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